TCP 系列等离子刻蚀机  9400、9600 Series Plasma Etcher
机台介绍
TCP系列设备是Lam基于ICP的单腔体型刻蚀设备，刻蚀线宽≥0.3微米；主要用于8英寸及以下晶圆的氧化硅、氮化硅、多晶硅、硅及金属材料的刻蚀。TCP设备占地面积小、设备集成度高，适用于规模化生产。同时，设备配备强大的射频系统及气路系统，可实现多种工艺的兼容开发。TCP系列设备可选配静电吸附、Envision系统等，可根据不同的工艺要求选择适用的配置；设备市场保有量大，备件渠道完善。

应用领域
6英寸、8英寸传统硅基半导体产线

升级后应用领域
4英寸、6英寸碳化硅、氮化镓、砷化镓的工艺制程

升级后产品优势
· 可选配Envision操作系统，提供更便捷的操作，更强的数据记录及数据通信
· 可定制8路MFC，兼容多种研发用刻蚀工艺
· 可升级传送及腔体套件，匹配透明片、薄片的传送及配套工艺
· 可定制4英寸静电吸附，满足超薄晶圆刻蚀
· 可定制高精度偏压射频，实现GaN、GaAs等材料的低损伤刻蚀
· 可定制9600DSQ chamber低温去胶方案
· 可定制特殊Si刻蚀的解决方案，满足小线宽、大深宽比的需求
· 提供多种新工艺开发及解决方案
· 软件具有安全方便的权限管理、人性化的操作界面和完善的日志记录功能，支持工厂自动化