工艺案例 | 邑文科技ALD布拉格原子叠层技术（Bragg Atomic Stack, BAS）

发布时间：2025-05-26

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DBR（分布式布拉格反射器）是一种基于布拉格反射原理的光学元件，通过周期性交替排列的高、低折射率材料层实现对特定波长光的高效反射。 DBR技术的核心难点集中在纳米级制造工艺、热稳定性、材料体系创新以及集成化设计。...

智汇前沿 · 共拓芯程丨邑文科技第四届科技论坛圆满收官

发布时间：2025-05-13

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在半导体产业向高端化、智能化加速迈进的关键时期，5月9日，由邑文研究院主办的第四届科技论坛在邑文南通制造中心隆重举行。作为公司内聚焦技术创新的重要交流平台，本次论坛以“智汇前沿 共拓芯程”为主题，吸引了邑文研发中心全体技术骨干与泓芯半导体有...

工艺案例 | 邑文科技SINO Plasma 6000 ICP SiC沟槽刻蚀底部圆角与侧壁粗糙度优化开发

发布时间：2025-04-17

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碳化硅（SiC）作为第三代半导体材料的代表，凭借其高击穿场强、高热导率和宽禁带特性，已成为高压功率器件（如新能源汽车、光伏逆变器、高压电网）的核心材料。然而，传统平面型SiC MOSFET受限于沟道迁移率和电场分布均匀性，难以满足更高功率密...

SEMICON CHINA 2025圆满收官！邑文科技与您共赴半导体前道设备新未来

发布时间：2025-03-28

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2025年3月26日-28日，全球半导体行业瞩目的SEMICON CHINA展会在上海新国际展览中心落下帷幕。 作为全球半导体行业的“开年大戏”，本届展会以 “跨界全球・心芯相联”为主题，吸引1400 + 家展商、超 18 万人次专业观众...

邑文科技闪耀 SEMICON China 2025 首日！国产半导体前道设备再破局，赋能半导体 “芯” 未来

发布时间：2025-03-26

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3 月 26 日，全球半导体行业年度盛会SEMICON China 2025在上海新国际博览中心盛大启幕！作为半导体前道设备领域的国内领军企业，邑文科技携多款自主研发的刻蚀工艺设备与薄膜沉积工艺设备重磅亮相（展位号：N2-2319），以创新...