SINO-ALD P200
发布时间：2020/09/07 10:38:38
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机台介绍 原子层沉积系统SINO-ALD P200是邑文自主研发的量产型原子层沉积设备，采用腔体结构和进气方式，有效降低生产成本和提高产量，保证好的薄膜性能。适用200mm及以下晶片批量生产。人性化的软件设计，轻易做到一键式操作。 应用领域 · 有机/无机光发射二极管 · MEMS · 功率器件 · 集成电路 产品优势 · 前驱体源消耗低、薄膜生长周期短 · 紧凑集成式设计、占地少 · 温度稳定、薄膜均匀性高 · 适用高深宽比材料 · 选配预热模块，有效降低等待时间，提高产能 · 产品完全符合 SEMI S2/S8 和 SECS/GEM 标准 主要技术参数 Max. wafer size：8''（200mm） Cassette：25pcs Non-uniformity：1% Max. Temp：500℃ |
苏公网安备 32021402002332号 
