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CVD化学气相沉积
    SINO Plasma/2000/6000/7000PECVD
     产品工艺应用类型有α-Si,SiO2,SixNy,PSG,BPSG等。
     应用于Si基工艺、化合物、MEMS领域、滤波器、光通信、微显示、光学微加工等领域。
     可根据用户的产品需求灵活的配置不同类型的传送平台及腔体型号(有多片型及单片型腔体可供选择),适合院校、研发线、中试线、大规模产线的不同应用需求。
     可根据用户应用场景提供不同的工艺配置项,从而达到客户的不同折射率,不同应力得需求。
     运营成本低。