CN EN
ALD系列产品
    ALD原子层沉积设备  
     薄膜镀膜技术。
     精确控制薄膜厚度和结构,直至纳米级。
     在精细的纳米结构上,薄膜都能具有较高的一致性和保形性。
     紧密、无针孔、无缺陷薄膜。
     良好的重复性。
     工艺温度低,可以沉积在温度敏感的基材。



    邑文的SINO ALD系列
     产品工艺应用类型有氧化物、氮化物、金属等。
     应用于Si基工艺、化合物、MEMS领域、滤波器、显示等领域。
     可根据用户的产品需求给出对应的产品类型,适合院校、研发线、中试线、大规模产线的不同应用需求。
     可根据用户应用场景提供不同的工艺需要,定制化工艺方案(如低温工艺,等离子体ALD工艺等)。
     运营成本低。