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快速退火产品
    快速退火产品
     产品工艺应用类型有:快速热处理,快速退火,接触退火,离子注入退火,快速热氧化,快速热氮化等工艺。
     应用于Si基工艺、化合物(包含GaN&GaAs&SiC等)工艺、MEMS领域等领域。
     可根据用户应用场景在不同气氛环境下使用,如惰性气氛、氧气、混合气等不同环境下使用。
     高工作温度1300℃,升温速率100℃/s,温度控制精度≤±2℃。