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SINO-Plasma 100去胶机

 
机台介绍
SINO-Plasma 100去胶机是邑文自主研发单腔体去胶设备,配置高精度传送手臂,电感耦合等离子体(ICP)源,高精度控温热板模块。基于Windows平台自主开发的操作系统,大尺英寸液晶触摸面板,人机交换界面简单便捷。设备具有占用空间小,耗材及运营成本低等优点。适用于半导体前后段各种光刻胶的去除。

应用领域
· 4英寸~8英寸硅基半导体生产线
· 4英寸~6英寸碳化硅、氮化镓、砷化镓等产线的去胶应用
· 封装测试、MEMS等应用

产品优势
· 高精度传送平台
· 高刻蚀速率
· 专业的编程设计,各位置互锁及产品保护
· 大尺英寸触摸屏人机交换界面,可视化操作
· 反应腔套件损耗及维护成本低
· 可提供多种新工艺开发及解决方案

主要技术参数
Equipment Availability / Uptime:≥92
WPH:>30
Strip Rate:>6,0000 A/min
Strip Rate Uniformity:<5%
Substrate Loss:<15A


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