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SINO Plasma2000ICP ICP刻蚀机

工艺应用
硅刻蚀、多晶硅刻蚀、氮化硅刻蚀、氧化硅刻蚀、碳化硅刻蚀、氮化镓刻蚀、砷化镓刻蚀、氮化铝刻蚀、光波导刻蚀



晶圆尺寸
8寸及以下



适用衬底材料
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、石英玻璃



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