工艺应用
硅刻蚀、多晶硅刻蚀、氮化硅刻蚀、氧化硅刻蚀、碳化硅刻蚀、氮化镓刻蚀、砷化镓刻蚀、氮化铝刻蚀、光波导刻蚀

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晶圆尺寸
8寸及以下

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适用衬底材料
硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、石英玻璃

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应用领域
科研、Si基工艺、化合物（包含GaN&GaAs&SiC&AlN等）、MEMS领域、滤波器、光通信、微显示、光学微加工等领域。